Contamination control solutions for CMP, wet etch, cleans and precision manufacturing Giải pháp kiểm soát nhiễm bẩn cho CMP, wet etch, làm sạch và sản xuất chính xác
Pall Data Storage Filters are designed to maximize process performance, reduce catastrophic defects and improve yield in critical manufacturing steps. Pall supports data storage production with contamination control technologies for CMP slurries, ultrapure water, cleaning chemicals, wet etch and plating processes. Bộ lọc Pall Data Storage được thiết kế để tối đa hóa hiệu suất quy trình, giảm lỗi nghiêm trọng và cải thiện sản lượng ở các công đoạn sản xuất trọng yếu. Pall hỗ trợ sản xuất data storage bằng các công nghệ kiểm soát nhiễm bẩn cho slurry CMP, nước siêu tinh khiết, hóa chất làm sạch, wet etch và quá trình plating.
| CMP FiltrationLọc CMP | Controls slurry size, shape and chemistry |
| Wet Etch & CleansWet etch & làm sạch | Defect removal for glass and aluminum substrates |
| Plating ApplicationsỨng dụng plating | Membrane filtration for zinc and nickel plating |
| Media OptionsTùy chọn vật liệu lọc | Bulk and point-of-use configurations |
| ManufacturingSản xuất | Cleanroom made, low extractables |
| PerformanceHiệu suất | Improved process stability and fewer defects |
| LifetimeTuổi thọ | Long filter life to reduce cost per disk |
Pall data storage solutions are ideal for manufacturers that need tighter contamination control across disk, substrate and fluid management steps. Giải pháp Pall cho ngành data storage phù hợp với các nhà sản xuất cần kiểm soát nhiễm bẩn chặt chẽ hơn trên các công đoạn xử lý đĩa, nền và dung dịch công nghệ.
Need support selecting the right filtration solution for your process? Cần hỗ trợ chọn giải pháp lọc phù hợp cho quy trình của bạn? Contact our team